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搜索结果: 1-14 共查到高分子化学 PMMA相关记录14条 . 查询时间(0.074 秒)
以多壁碳纳米管(MWCNTs)为导电填料、疏水纳米二氧化硅(SiO2)为非导电填料,填充不相容聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)/聚苯乙烯(PS) (1/1,V/V)共混物,制备(PMMA/SiO2)/(PS/MWCNTs)四元导电高分子复合材料(CPC),研究其导电逾渗与动态流变行为,并与PMMA/(PS/MWCNTs)三元CPC进行对比.发现三元、四元CPC具有类似的导电逾渗行为,且逾渗阈值显著低于...
将复杂接枝(接枝率为1540.3%)、简单接枝(接枝率为484.4%)和未接枝3种具有不同接枝交联结构的SiO2/聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)复合材料作为无机预分散母料,通过与PMMA树脂的溶液共混,制得一系列PMMA/SiO2/N,N-二甲基甲酰胺(DMF)高分子溶液,再将其应用于静电纺丝制备相应的电纺复合纤维.发现,只有简单接枝复合材料所制共混高分子溶液具有较好的可纺性,且通过纺丝工艺和配方的...
将无水三异丙氧基钐直接加入甲基丙烯酸甲酯(MMA)中会迅速形成凝胶,通过原位聚合可获得含钐的PMMA固体材料.研究表明,随钐含量的提高,含钐PMMA的结构逐渐由线型向交联网状体型转变,并使材料耐热性、耐溶剂性及贮能模量提高;ESEM表明,含钐PMMA呈交联网络蜂窝结构,未见聚集体,钐元素在体系中均匀分布;同时该材料呈现钐离子的特征荧光,在所测定的浓度范围内,荧光强度随钐含量增加而提高.
采用DMA和TEM系统研究了聚丁二烯-聚甲基丙烯酸甲酯的嵌段共聚物(PBD-b-PMMA)与聚氯乙烯(PVC)共混体系的相容性问题.结果表明,PVC/PBD-b-PMMA共混体系具有部分相容性,相容的程度与共混体系的组成、组分聚合物的分子量以及共聚物中PBD和PMMA嵌段的比例密切相关.
采用表面引发原子转移自由基聚合方法合成了核壳结构的磁性高分子纳米微粒. 作为聚合反应引发剂的3-氯丙酸, 首先与油酸修饰的Fe3O4纳米微粒表面的部分油酸置换, 然后在Fe3O4纳米微粒表面引发甲基丙烯酸甲酯聚合, 合成的纳米复合材料用TEM, FTIR, XRD和DSC表征. 磁性测试结果表明, 所制备的磁性高分子纳米微粒仍具有超顺磁性, 但由于聚合物的存在, 其饱和磁化强度降低.
采用无皂乳液聚合法制备了单分散、直径为170 nm左右的聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)纳米球, 然后利用3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷(MATS)和3-巯丙基三甲氧基硅烷(MPTMS)对PMMA纳米球进行表面改性, 在其表面包覆一层均匀的巯基, 通过巯基与银离子之间的相互作用, 使银在PMMA纳米球表面成核长大, 从而合成PMMA/Ag纳米球壳粒子. 通过扫描电子显微镜、投射电子显微镜和紫外-可...
采用封管反应, 以较高产率(80%以上)合成了一种PMMA型的极化非线性光学聚合物材料. 该材料具有很好的成膜性, 用电晕极化的方法使其旋涂膜中的生色团极化取向, 并利用偏振红外光谱和偏振紫外光谱等方法, 对膜中生色团极化前后的取向进行了研究.
以醋酸乙烯酯(VAc)和丙烯酸甲酯(MA)为单体, 采用半连续种子乳液聚合法制备了无规共聚物P(VAc-MA), 以PMMA与P(VAc-MA)的共混物为基体制备了聚合物电解质. 用红外光谱(FTIR)、X射线衍射(XRD)、热重分析(TG)、紫外光谱(UV)、力学性能测试及电化学交流阻抗等方法研究了聚合物、聚合物膜和聚合物电解质的性质. 结果表明, VAc与MA通过打开各自的CC键聚合生成P...
考察了聚丙烯酸丁酯/聚苯乙烯(PBA/PS)以及聚丙烯酸丁酯/聚甲基丙烯酸甲酯(PBA/PMMA)交联核壳结构纳米高分子微球的制备方法,并对其在尼龙复合材料中的应用进行了初步研究.结果表明,通过交联剂的引入使粒子核层和壳层内部均形成了高度交联的结构,可以限制亲水性较小的聚苯乙烯(PS)壳层向粒子内部迁移的趋势;制备出的微球平均粒径为40~50 nm,粒径分布很窄.采用饥饿态加料方式加入第二单体不仅...
在纳米二氧化硅水分散介质中,借助于正离子单体甲基丙烯酰氧乙基三甲基氯化铵(MTC)与未改性纳米二氧化硅颗粒之间的电荷作用,通过MTC与甲基丙烯酸甲酯(MMA)的自由基共聚合,制备了草莓型的PMMA/SiO2复合微球.整个制备反应过程中,纳米二氧化硅无需表面处理,体系中无需另外加入乳化剂或助乳化剂,微球表面吸附的纳米二氧化硅对颗粒起稳定作用.详细讨论了纳米二氧化硅初始添加量、MTC浓度对复合微球的平...
薄层软刻蚀法制备PMMA微图案结构          2007/12/21
对现有的软刻蚀方法提出了改进,让其与压印技术及毛细力刻蚀技术相结合形成一种薄层软刻蚀技术,并以这种技术制备出PMMA薄膜微图案化结构.在30 mm/h的拉膜速度以及弹性印章表面图形深度确定不变的情况下,PMMA流体能够完全填充到弹性印章的微通道中,SEM和光学显微镜照片证明得到的PMMA微图案是相互分离的.因此,薄层软刻蚀技术可以克服普通微模塑方法制备分离图形困难和纳米压印技术中需要使用巨大机械压...
利用相差显微镜、三维形貌测量仪对聚甲基丙烯酸甲酯/超支化聚(酯-酰胺)(PMMA/HBP)共混物薄膜在玻璃基板作用下的相分离行为进行了研究.结果表明,不同组分比的共混物薄膜会呈现不同的相形态和相分离过程.当薄膜厚度在500nm左右,HBP为低组分时,发现了一种特殊的分散相为圆柱状的相形态,并对该相形态出现的条件进行了研究.认为基板与组分之间的相互作用和薄膜厚度决定了圆柱状结构形成.
PMMA/PS共混物薄膜中Voronoi结构的形成。
在分子设计的基础上,合成了以Br为端基的聚(2, 5-二辛氧基对亚苯基亚乙烯基)(PPV-Br)低聚体,并采用甲基丙烯酸甲酯(MMA)原子转移自由基聚合法,以该低聚体作为大分子引发剂,合成了PPV-b-PMMA二嵌段共聚物.经FTIR、UV-Vis、1H-NMR和GPC等表征手段证明,所合成的PPV-b-PMMA二嵌段共聚物具有分子设计的预定结构.PPV大分子引发剂和PPV-b-PMMA二嵌段共聚...

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