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投影光刻机为制造大规模集成电路关键设备，我所研制光学系统，机械结构由上海无线电机械厂负责。〓主要技术性能指标：焦距：f=86.4mm;放大率：M=-1/5倍;象面直径：Φ10mm;物距;342.9mm;象距：39.86mm;相对孔径：1°１.2;光拦孔径可变，最大Φ30mm。

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