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中国科学院金属研究所专利：一种用于电弧离子镀沉积磁性材料涂层的复合结构靶材
中国科学院金属研究所 专利 电弧离子镀 沉积 磁性材料涂层 复合结构 靶材
2023/9/25
本实用新型属于薄膜制备领域,具体地说是一种用于电弧离子镀沉积磁性材料涂层的复合结构靶材。复合结构靶材为靶壳及磁性材料靶材构成,靶壳紧固于磁性材料靶材外围；其中,靶壳为低饱和蒸气压和低二次电子发射产额的金属靶壳；或者,靶壳为陶瓷相材料层依附于可加工金属环上形成的靶壳,可加工金属环紧固于磁性材料靶材外围,陶瓷相材料层依附于可加工金属环在与磁性材料靶材的靶面平行方向的面上。本实用新型解决了电弧离子镀难于...