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中国科学院合肥物质科学研究院专利：一种油酸辅助制备硼化锆粉体的方法
中国科学院合肥物质科学研究院 专利 油酸辅助 硼化锆粉体
2023/12/26
中国科学院合肥物质科学研究院专利：一种油酸辅助制备硼化锆粉体的方法
中国科学院合肥物质科学研究院专利：分枝可控的二氧化钛纳米管阵列薄膜及其制备方法
中国科学院合肥物质科学研究院专利：一种去除贵金属纳米线阵列背面金膜电极的机械抛光方法
中国科学院合肥物质科学研究院专利：负载金纳米颗粒的铁酸镧薄膜及其制备方法和用途
中国科学院合肥物质科学研究院专利：一种表面镀有金刚石膜的第一壁材料制备方法
中国科学院合肥物质科学研究院专利：一种Au-Cu/Ag-A1纳米多层膜表面增强荧光基底及其应用
中国科学院合肥物质科学研究院 专利 Au-Cu Ag-A1 纳米多层膜 表面增强 荧光基底
2023/12/26
中国科学院合肥物质科学研究院专利：一种Au-Cu/Ag-A1纳米多层膜表面增强荧光基底及其应用
本发明公开了一种含氟疏水性共聚物油水分离薄膜的制备方法，该方法中采用均相溶液自由基聚合法，将主链单体与含氟单体在油溶性引发剂的作用下共聚，经水中沉淀和真空干燥后，得到含氟疏水性共聚物粉末。将其溶解在有机溶剂中，配制出一定浓度的纺丝原液，通过静电纺丝法制备出具有超疏水/超亲油性能的纳米油水分离薄膜。通过本发明所述方法获得的含氟疏水性共聚物油水分离薄膜具有孔径、纤维直径、厚度可调等特点，其在重力作用下...
中国科学院大连化学物理研究所专利：一种中空纤维膜接触器的再生方法
中国科学院大连化学物理研究所 专利 中空纤维膜 接触器 再生
2023/12/21
本发明涉及一种中空纤维膜接触器的再生方法，通过溶剂置换干燥过程对膜接触器中的中空纤维膜进行再生。污染或润湿后的膜接触器首先用常规药剂对其进行清洗，然后依次采用纯水、醇类和低沸点烃类对中空纤维膜进行置换处理，最后采用干燥气体对膜进行吹干。再生后中空纤维膜表面及膜孔内的污染物及液态水可被彻底除去，接触器可完全恢复其初始性能。
中国科学院金属研究所专利：热生长Cr203膜型Cu-Ni-Cr纳米复合镀层及制备和应用
中国科学院金属研究所 专利 热生长 Cr2O3 Al2O3膜型 M-Cr-Al纳米复合镀层
2023/12/21
中国科学院金属研究所专利：热生长Cr203膜型Cu-Ni-Cr纳米复合镀层及制备和应用
中国科学院金属研究所专利：一种用于薄膜非接触热膨胀测量的低温装置
中国科学院金属研究所 专利 薄膜 热膨胀测量 低温装置
2023/12/21
本实用新型涉及用于薄膜非接触热膨胀测量技术,具体为一种用于薄膜非接 触热膨胀测量的低能耗低温装置(-130℃～250℃)。该装置设有低温-高温炉系统、 试样架系统,低温-高温炉系统采用两级真空双层结构,置于低温-高温炉系统中 的加热器采用锥型-沟槽型结构,置于加热器中的试样架系统采用弹性夹持结构。 本实用新型用非接触方法测量薄膜热膨胀的低能耗,将温度范围扩展到低温,低 温装置在1.5小时内使试样降...
中国科学院金属研究所专利：一种离子镀弧斑控制装置
中国科学院金属研究所 专利 离子镀 弧斑控制
2023/12/21
本实用新型涉及薄膜制备领域,具体地说是一种新型离子镀弧斑控制装置, 所述新型离子镀弧斑控制装置的靶材底座后面设有由小型直流电机或者交流电机 驱动的旋转磁场发生装置,电机驱动固定在电机转轴上的磁轭带动合理分布在磁 轭上的永磁体转动,不同的永磁体分布产生不同位形结构的旋转磁场,实现多控 制模式的目的。本实用新型利用简单紧凑的装置结构和不同的永磁体分布方式, 产生不同位形的动态旋转磁场,用以改善弧斑的放...
中国科学院金属研究所专利：一种动态受控电弧离子镀弧源
中国科学院金属研究所 专利 动态受控 电弧离子镀 弧源
2023/12/21
本发明涉及薄膜制备领域,具体地说是一种利用动态磁场控制弧斑运动的电 弧离子镀弧源。所述动态受控电弧离子镀弧源设有动态控制磁场发生装置、靶材、 靶材底座,靶材安装于靶材底座上,动态控制磁场发生装置为主控磁场发生装置 和辅助磁场发生装置构成,主控磁场发生装置放置于靶材后面,和靶材同轴放置, 辅助磁场发生装置套在主控磁场发生装置周围。本发明通过两组磁场发生装置配 合使用,在靶面上形成动态分布的拱形磁场,...
中国科学院金属研究所专利：提高电弧离子镀沉积薄膜质量的装置
中国科学院金属研究所 专利 电弧离子镀 沉积 薄膜质量
2023/12/21
本发明涉及薄膜制备领域,具体地说是一种提高电弧离子镀沉积薄膜质量的 装置,解决由于电弧离子镀中大颗粒的存在,严重影响了涂层和薄膜的性能和寿 命等问题。本发明采用双层带孔挡板放置于电弧离子镀沉积装置的靶材与基体之 间,与靶材和基体同轴放置,基体后放置增强磁场的发生装置。本发明是在电弧 离子镀沉积工艺中使用的简便装置,用以减少薄膜中大颗粒的含量,降低薄膜表 面的粗糙度,提高薄膜的性能和寿命,达到制备高...
中国科学院金属研究所专利：一种结构紧凑的多功能磁控离子镀弧源装置
中国科学院金属研究所 专利 结构紧凑 磁控离子镀 弧源装置
2023/12/21
本发明涉及薄膜制备领域,具体地说是一种结构简单紧凑的多功能多控制模 式磁控离子镀弧源装置,磁控离子镀弧源装置的靶材底座后面设有由小型直流电 机或者交流电机驱动的旋转磁场发生装置,电机驱动固定在电机转轴上的磁轭带 动合理分布在磁轭上的永磁体转动,不同的永磁体分布便产生不同位形结构的旋 转磁场,实现多控制模式的目的。本发明利用简单紧凑的弧源结构和不同的永磁 体分布方式,产生不同位形的动态旋转磁场,用以...
中国科学院金属研究所专利：旋转磁控电弧离子镀弧源
中国科学院金属研究所 专利 旋转磁控 电弧离子镀 弧源
2023/12/21
本发明涉及薄膜制备领域,具体地说是一种利用旋转磁场控制弧斑运动的旋 转磁控电弧离子镀弧源。在靶材周围空间设有旋转磁场发生装置,旋转磁场发生 装置为采用相差一定均匀角度、相互连接在一起的几个磁极均匀布在同一圆周上, 磁极数量为4n或者3n,n≥1,形成一个整体的电磁回路骨架,励磁线圈套在磁 极上或者嵌在相邻磁极之间的槽隙内,采用相位差90°的两相或者相位差120° 的三相励磁顺序供电,在磁极包围的空...