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为了促进国际光电子探测与成像技术的发展与应用,继成功举办前两届“国际光电探测与成像技术学术交流会”之后,中国宇航学会光电技术专业委员会联合国际光学工程学会(SPIE)将于2009年6月共同举办第三届国际光电子探测与成像技术学术交流会。此次会议规模预计超过500人,组委会将邀请国外50余位专家到会作专题技术报告。

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