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美国佐治亚理工学院王中林小组高分子纳米线阵列制备取得新突破(图)
王中林 高分子纳米线阵列
2009/9/28
《科学》:科学家发明新涂层能自我修复(图)
新涂层 自我修复
2009/3/16
日本研究者用高分子材料制成10纳米超微结构
高分子材料 超微结构
2008/10/14