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真空退火对355nm Al2O3/MgF2高反射薄膜性能的影响
退火 结构 激光损伤阈值
2009/1/4
采用电子束蒸发沉积技术制备了355nm Al2O3/MgF2 高反射薄膜，并在真空中进行不同温度梯度的退火，用X射线衍射（XRD）观察了薄膜微结构的变化，用355nm Nd：YAG脉冲激光测试了薄膜的激光损伤阈值，用Lambda 900光谱仪测试了薄膜的透过和反射光谱。结果表明在工艺条件相同的条件下真空退火过程对薄膜的性能有很大的影响，退火温度梯度越小的样品，吸收越小，阈值越大，并且是非晶结构。选...