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中国科学院金属研究所专利：一种玻璃镀膜靶材及其制备方法
中国科学院金属研究所 专利 玻璃镀膜 靶材
2023/11/8
本发明涉及玻璃镀膜靶材制备领域,具体为一种玻璃镀膜靶材及其制备方法,解决磁控溅射玻璃镀膜靶材制备问题。该玻璃镀膜靶材采用的原材料为SiAl粉末,由纯Si粉和纯Al粉机械混合制得,混合粉末中各组元质量百分比及粒度为：Si粉85-95wt％,粒度45-125μm；Al粉5-15wt％,粒度30-100μm。该玻璃镀膜靶材采用常压等离子喷涂技术制备,制备工艺参数为：电流400-500A,电压45-58V...