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海岸带环境中的污染物如有机污染物、致病菌、重金属等种类繁多且环境毒性较大，迫切需要开发新型快速、灵敏、准确的传感分析方法及高效的鉴别分析系统。长期以来，聚合物敏感膜电位分析技术受疏水性化学配体的限制，主要用于实现对各类离子的检测。针对上述挑战，中国科学院烟台海岸带研究所的秦伟研究员及其团队，提出了基于磁控生物识别分子直接电位响应的聚合物膜电极生物传感新方法。
访朱良漪奖获得者吴立冬：聚焦磁性分离材料，开发自动化“磁控”技术（图）
磁分离 场效应 晶体管芯片 快速检测
2023/3/23
2023年1月，中国水产科学研究院吴立冬研究员获得2022年“朱良漪分析仪器创新奖”之“青年创新奖”，获奖成果是“基于磁分离和场效应晶体管芯片的快速检测整套解决方案”。基于此，仪器信息网与吴博士就其研制成果进行了深入交流。
液压支架是综采工作面的主要设备，其推移位置的准确性决定着采煤工作是否能够正常进行。通常液压支架的推移由推移油缸来完成。为了准确测量其推移位置，本文设计并开发了一种用于液压支架推移油缸的磁控位移传感器。基于磁环控制测量杆内干簧管通断的原理，就可以将位移转变成电压信号。改变磁环的位置，相对应的干簧管导通，输出电压随之改变。传感器量程为100cm，相对误差为0.8%，线性度约为0.0958%，输出电压波...
沉积参数对磁控溅射CrNx膜结构和性能的影响
直流磁控溅射 CrNx膜 沉积参数 结构与性能
2010/5/7
本文采用非平衡直流磁控溅射方法制备CrNx薄膜，研究沉积参数对膜结构和性能的影响。结果表明沉积过程中增加N2的分压，薄膜的组成由Cr2N相转变成CrN相，膜的表面形貌也由胞状转化为正四面体。增加样品台的负偏压，沉积膜层更加致密，表面更加平坦。
基于磁控电弧传感器的焊缝跟踪系统
焊缝跟踪 磁控电弧传感器 Smith 预估补偿法 信号处理
2014/5/14
为了解决目前焊缝跟踪传感器存在的一些问题，将磁场控制电弧技术应用于焊缝跟踪，设计了一种磁控电弧传感器，分析了其基本原理，并建立了相关的数学模型，对主要参数进行了分析，为磁控电弧传感器的应用提供了理论依据。设计了一种基于磁控电弧传感器的焊缝跟踪系统，使跟踪系统和焊接系统相对独立，拓宽了其应用范围，采用了Smith 预估补偿法来消除滞后对控制系统的影响。在信号处理方面，对采样信号进行了 型滤波和巴特沃...
利用磁场控制纳米材料阻抗特性，进耐转换成高低变化的直流电压输出、性能稳定可靠。该传感器的技术指标如下：阀值磁场强度为：0.42±0.080；开关响应时间小于0.1mS；工作温度范围：-12-+160℃；供电电压和电流：9.0-24.0V和8-10mA。该项目适用范围及市场预测：高温非接触，远距离(不小于5cm)，小体积的开关传感器，即位移变化磁场会产生控制信号。所需条件：周围环境的磁场强度及其变化...
磁控溅射技术进展及应用(上)
应用 进展 磁控溅射技术
2008/5/9
近年来磁控溅射技术的应用日趋广泛，在工业生产和科学研究领域发挥巨大作用。随着对具有各种新型功能的薄膜需求的增加，相应的磁控溅射技术也获得进一步的发展。本文将介绍磁控溅射技术的发展，以及闭合磁场非平衡溅射、高速率溅射及自溅射、中频及脉冲溅射等各种新技术及特点，阐述磁控溅射技术在电子、光学、表面功能薄膜、薄膜发光材料等许多方面的应用。
磁控溅射技术进展及应用(下)
应用 进展 磁控溅射技术
2008/5/9
近年来磁控溅射技术的应用日趋广泛，在工业生产和科学研究领域发挥巨大作用。随着对具有各种新型功能的薄膜需求的增加，相应的磁控溅射技术也获得进一步的发展。本文将介绍磁控溅射技术的发展，以及闭合磁场非平衡溅射、高速率溅射及自溅射、中频及脉冲溅射等各种新技术及特点，阐述磁控溅射技术在电子、光学、表面功能薄膜、薄膜发光材料等许多方面的应用。
样品室真空度对磁控溅射Ti膜结构的影响
磁控溅射Ti膜结构 样品室真空度
2008/5/4
本文利用场发射扫描电子显微镜和能谱仪研究不同样品室真空度条件下磁控溅射Ti沉积膜膜层的氧含量和微观结构。结果发现，当样品室真空度较低时，膜层的氧含量很高，膜层为钛的氧化物；随着真空度的提高，膜层的氧含量降低，Ti的晶粒出现；进一步提高真空度，Ti晶粒更为明显，膜层的截面呈柱状晶结构。