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中国科学院光电技术研究所深紫外光刻机镀膜技术研究取得新进展（图）
中国科学院光电技术研究所 深紫外光刻机 镀膜技术 薄膜微结构
2018/10/26
193nm 光刻机是目前半导体产业的核心装备。为实现大的数值孔径，光刻机镜头通常包含大量接近于半球形状的凸球面和凹球面，这些球面导致同一镜面上光线入射角度范围高达0°到60°以上。目前通用的热蒸发行星镀膜技术会引起球面上严重的膜厚不均匀；同时在球面上的不同位置，高低折射率材料如LaF3 和MgF2 的折射率也发生明显改变，从而导致球面镜片上不同位置的宽入射角度范围的增透膜的光谱明显不一致。继201...