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本发明涉及一种直流磁控溅射制备非晶态La?Mn?O薄膜的方法，该方法利用直流磁控溅射以镧锰合金为靶材，将合金靶材和衬底放入磁控溅射生长室中，在真空条件下进行磁控溅射得到沉积态薄膜，将沉积态薄膜进行后退火处理，通过调控退火温度得到非晶态La?Mn?O薄膜，该方法工艺简单，效率高，形成非晶相薄膜的退火温度较低，能耗较少，制备的非晶相La?Mn?O薄膜成分均匀，具有显著的负温度系数特性，有望应用于NTC...