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重庆理工大学材料性能学课件第十一章 材料的光学性能。
重庆理工大学材料科学与工程学院材料性能学课件第十一章 材料的光学性能。
武汉理工大学材料物理性能课件第四章 材料的光学性能。
基片温度对微晶硅薄膜微观结构和光学性能的影响
材料合成与加工工艺 微晶硅薄膜 ECR--PECVD 吸收系数 光学带隙
2011/12/31
以Ar+SiH4作为反应气体, 采用电子回旋共振等离子体增强化学气相沉积(ECR--PECVD)方法制备微晶硅薄膜, 研究了基片温度对薄膜微观结构、吸收系数、光学禁带宽度的影响。结果表明, 随着基片温度的升高, 薄膜的微观组织逐渐由非晶转化为微晶, 薄膜的粗糙度单调增大, 而H含量则单调减小。薄膜的光学吸收系数随基片温度的升高而增大, 禁带宽度由1.89 eV降低到1.75 eV。
聚醋酸乙烯酯/纳米ZnO颗粒复合材料的等离子聚合及其光学性能
复合材料 等离子聚合 表面改性 纳米ZnO
2011/12/30
采用等离子镀膜方法在纳米ZnO颗粒表面沉积一层有机薄膜, 制备出聚合物/ZnO复合材料。用高分辨透射电子显微镜(HRTEM)、傅立叶变换红外光谱(FTIR)、光致发光光谱(PL)和紫外--可见吸收光谱(UV--Vis)对其形貌、结构和性能进行表征, 研究了聚合物/ZnO复合材料的光学性能以及聚合物与纳米ZnO颗粒的结合强度。结果表明, 用等离子镀膜法可在纳米ZnO颗粒表面沉积一层醋酸乙烯酯(VAC...
采用1,4-环己烷二甲醇(CHDM)与1,4-环己烷二甲酸(CHDA)通过两阶段连续反应合成脂环族聚酯——聚(1,4-环己烷二甲酸-1,4-环己烷二甲醇酯)(PCCD)。研究了常压酯化阶段和真空缩聚阶段的合成工艺,包括酯化温度、缩聚温度和真空压强对聚合反应的影响,获得较理想的制备条件;采用红外光谱和核磁共振分析反应产物,表明其化学结构特征符合PCCD的分子特点。最后进行光学性能测试,实验结果表明,...
通过测试注射成型和注射压缩成型透明件的光学性能以及内应力分布和厚度分布，并结合两种成型方式的技术特点，对注射成型和注射压缩成型透明件的光学性能进行了详细的比较和分析，结果表明: 注射成型和注射压缩成型透明件具有良好的表观光学质量，透光率和雾度接近，这与两者在成型材料和表面粗糙度一致有关 但与注射成型透明件相比，注射压缩成型透明件具有更低的双折射光学畸变和角偏差 注射压缩成型透明件的低双折射源于内部...
以正硅酸四乙酯为前驱体, 制备出粒径20--100 nm的二氧化硅溶胶。用提拉法在玻璃基片上制备出氧化硅基多孔减反射膜, 并研究了不同粒径的二氧化硅溶胶老化后溶胶胶粒的微观结构与相应的多孔氧化硅减反射膜微观孔结构的差异。 结果表明, 颗粒粒径约20 nm的硅溶胶在老化过程中易团聚成较大的二次颗粒, 形成结构疏松的氧化硅多孔减反射薄膜。镀有这种减反射膜的玻璃, 其峰值透过率在波长510 nm处达到9...
以MoO3粉末和石墨为原料, 用气相传输方法制备MoO2微/纳米片, 并对其形貌、结构及光学性能进行了分析和表征。结果表明, 用气相法制备的矩形薄片状MoO2, 长和宽在几微米到几十微米之间, 厚度约为200 nm。MoO2微/纳米片在波长200--300 nm的紫外光范围内有较强的吸收带, 在304.6 nm、343.4 nm和359.6 nm处有较强的发光峰。根据实验分析和热力学理论, 探讨了...
氧化硅稳定的氧化锡量子点薄膜的制备及其光学性能
溶胶-凝胶 薄膜 氧化锡 氧化硅
2009/8/21
用溶胶-凝胶-水热过程制备了氧化硅稳定的氧化锡量子点，然后将其分散到氧化硅溶液中，用旋转涂膜的方法制备光学性能良好的氧化硅稳定的氧化锡量子点薄膜。X射线衍射和高分辨透射电镜表征显示氧化锡量子点具有良好的四方金红石晶型，平均粒径约4.0 nm。室温光致发光显示这种氧化硅稳定的氧化锡量子点薄膜在356 nm和388 nm处分别有很强的激子发光和缺陷态发光。根据透射谱拟合得到了氧化锡量子点薄膜的光学禁带...
在室温下，将MCM41和热处理后的发光客体Eu(aspirin)3phen进行组装，通过XRD、N2吸脱附和PL等表征技术对组装体进行了研究，考察其光致发光性能。结果表明：Eu(aspirin)3phen进入MCM-41孔道后，充当了“二次模板剂”，使MCM-41的骨架有序性增加。经热处理后Eu(aspirin)3phen与MCM41组装后，组装体的发光强度与相应Eu(aspirin)3ph...
电子辐照对ZnO/K2SiO3型热控涂层光学性能的影响
电子辐照 热控涂层 光学性能
2009/2/18
研究了电子辐照对ZnO/K2SiO3型热控涂层光学性能的影响。采用10，30，50和70keV的电子对试样进行辐照。在辐照前后对每一个试样的光谱反射系数进行了原位测量。根据Johnson太阳光谱分布计算了涂层的太阳光谱吸收系数。分析了电子能量对光谱反射系数和太阳光谱吸收系数的影响，并对红外区光谱反射系数的变化结果进行了讨论。实验结果发现电子辐照后ZnO/K2SiO3涂层的光学性能发生严重退化，退化...
电子辐照能量对Kapton/Al热控涂层光学性能的影响
Kapton/Al 热控涂层 电子辐照
2009/2/18
研究了电子辐照时，电子能量与累积通量对Kapton/Al热控涂层光学性能的影响。采用原位测量的手段记录了辐照前后的光谱反射系数。试验结果表明，电子辐照后Kapton/Al热控涂层的反射性能,在太阳光谱辐射强度较大的300~1 200nm波长区间产生较大程度退化。在电子辐照作用下，作为离子导电型聚合物的 Kapton薄膜表面没有发现辐照充电效应。辐照后涂层材料存在“退火效应”，或称“漂白效应”。Ka...
沉积参数对碳氮化硅薄膜化学结构及光学性能的影响
SiCN薄膜 微波ECR等离子体 沉积参数 光学带隙
2008/9/23
利用微波电子回旋共振（MWECR）等离子体增强非平衡磁控溅射法制备了碳氮化硅（SiCN）薄膜。研究结果表明：硅靶溅射功率和氮气流量对薄膜化学结构、光学、力学等性能有很大影响。傅里叶变换红外光谱（FTIR）和X射线光电子能谱（XPS）表征显示，随着硅靶溅射功率由150W增加到350W，薄膜中CSiN键含量由14.3%增加到43.6％; 氮气流量的增大（2～15sccm）易于形成更多的sp2C...