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工程与技术科学基础学科 绝缘膜
”
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中国科学院深圳先进技术研究院专利:
绝缘膜
用组合物及三维垂直孔的孔壁上形成
绝缘膜
的方法
中国科学院深圳先进技术研究院
专利
绝缘膜
组合物
三维垂直孔
孔壁
2023/11/16
中国科学院深圳先进技术研究院专利:
绝缘膜
用组合物及三维垂直孔的孔壁上形成
绝缘膜
的方法
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文献传递
TiNi形状记忆合金表面
绝缘膜
的原位生长过程和相结构
记忆合金
绝缘膜
生长过程
相结构
2010/3/10
采用原位水热化学合成法,在TiNi形状记忆合金表面制备了组成主要为TiO2的
绝缘膜
,并对此
绝缘膜
的生长过程、 形貌以及相结构等进行了研究。结果表明,该
绝缘膜
主要成分为Ti和O,其相组成为TiO2和TiO2-x(x≤0.2)。随着
绝缘膜
保温时间的延长,
绝缘膜
逐渐增厚,可以达到4~5μm。适宜的保温温度约为200℃,保温时间为8~12h。当保温时间超过16h时,
绝缘膜
开始产生裂纹。对
绝缘膜
电阻特性的测...
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