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2024年3月18日，中国科学院上海光学精密机械研究所高功率激光元件技术与工程部在脉冲压缩光栅双光束静态干涉场全息曝光系统光学元件的指标体系和曝光光场均匀性控制工艺研究中取得新进展。研究首次建立了反射曝光光场均匀性的定量评价体系，并在小口径反射曝光系统中成功实现了应用验证。相关研究成果以“Specifications and control of spatial frequency errors ...