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中国科学院合肥物质科学研究院专利：光学薄膜基板耦合型大面积光学成像屏幕
中国科学院西安光机所在光学薄膜研究方面出版专著（图）
光学薄膜 光学晶体 光学元件
2023/11/9
2023年来，随着研发任务增多，西安光机所生产制造能力和工艺水平不断提升。先进光学元件试制中心徐耀研究员致力于化学法光学薄膜研究，突破大尺寸弯月面涂膜技术限制，创新核心纳米材料合成技术、复配技术以及涂膜设备，形成了高功率激光减反膜、光学晶体保护膜、无色差深紫外减反膜、高耐候性减反膜、可穿戴柔性减反膜等制备工艺，并在国家某重大专项上取得成功应用。
中国科大研制一种基于光学薄膜的平面型显微成像元件（图）
基于光学薄膜 显微成像元件
2022/11/17
2021年11月29日，中国科大物理学院光电子科学与技术安徽省重点实验室/合肥微尺度物质科学国家研究中心张斗国教授研究组提出并实现了一种基于光学薄膜的平面型显微成像元件，用作被测样本的载波片，可在常规的明场光学显微镜上实现暗场显微成像和全内反射成像，而获取高对比度的光学显微图像。研究成果以“Planar photonic chips with tailored angular transmissi...
近日，中国科学技术大学物理学院光电子科学与技术安徽省重点实验室/合肥微尺度物质科学国家研究中心张斗国教授研究组提出并实现了一种基于光学薄膜的平面型显微成像元件，用作被测样本的载波片，可在常规的明场光学显微镜上实现暗场显微成像和全内反射成像，而获取高对比度的光学显微图像。研究成果以“Planar photonic chips with tailored angular transmission fo...
近日，安徽省光电子科学与技术重点实验室张斗国教授研究组提出并实现了一种基于光学薄膜的平面型显微成像元件，用作被测样本的载波片，可在常规的明场光学显微镜上实现暗场显微成像和全内反射成像，而获取高对比度的光学显微图像。研究成果以“Planar photonic chips with tailored angular transmission for high-contrast-imaging devi...
科技成果转化公示——光学薄膜高维多目标优化设计方法
科技成果转化 光学薄膜 长春理工大学科学技术研究院
2022/6/14
本发明公开了一种光学薄膜高维多目标优化设计方法，其包括：应用高维多目标遗传算法，求解光学多层膜的多项性能目标的非支配解，分析所述非支配解分布以及所述各性能目标之间的关系，同时对所述非支配解进行优选，从而确定优选的进化方向；以及应用方向选择高维多目标遗传算法对确定的所述优选的进化方向进行局部精搜，获得高维多目标优化设计的优选膜系设计。本发明的设计方法有助于在一定工艺条件下，获得全面的膜系设计和降低复...
科技成果转化公示——一种光学薄膜和光电器件表面激光损伤阈值测量装置
光学薄膜 科技成果转化 能量探测器
2022/6/14
本发明提供了一种光学薄膜和光电器件表面激光损伤阈值测量装置，其包括激光电源、激光器、光束整形器、偏振能量调节器、聚焦透镜、分光镜、成像光学系统、图像传感器、光电探测器、能量探测器、图像采集卡、光电处理电路、能量采集处理电路、能量调节控制器、样品台(15)、运动控制卡和上位机；采用偏振能量调节方式来调节辐照在被测样品上表面激光脉冲能量，调节方便；采用能量均匀分布的激光光斑辐照来诱导被测样品表面损伤，...
光学薄膜减散射特性研究
光学薄膜 表面粗糙度 减散射
2016/7/28
为了降低光学薄膜的表面散射损耗,依据微粗糙面的一阶微扰理论,在不考虑多重散射效应的情况下,利用电磁场边界条件给出的光学薄膜任一界面粗糙度引起的散射场在入射介质中的表达式,重点讨论了单层光学薄膜实现零散射的条件以及实现减散射的条件,理论研究结果表明:当膜层的光学厚度为λ/4的偶数倍时,单层薄膜要实现减散射就必须使单层膜的折射率大于基底的折射率,且空气-薄膜界面的微粗糙度必须小于薄膜-基底界面之间的微...
近日，“2014年沪鲁光学薄膜技术交流会”在物理科学学院401会议室举办。本次会议由上海市激光学会光学薄膜专业委员会和青岛市物理学会主办，中国科学院上海光学精密机械研究所强激光材料实验室和我校物理科学学院承办。来自中科院上海光学精密机械研究所、中科院上海技术物理研究所、同济大学、上海理工大学、上海兆九光电技术有限公司、上海膜林科技有限公司、上海鑫晶光学仪器有限公司、青岛海泰新光科技有限公司、青岛浦...
光学薄膜前沿国际会议在同济大学成功举办（图）
光学薄膜 国际会议 同济大学
2014/10/31
2014年光学薄膜前沿（Frontiers of Optical Coatings, FOC 2014）国际会议于2014年10月20日至24日在同济大学成功举办。本次会议由国家自然科学基金委员会和中国光学学会主办，由同济大学和浙江大学承办。
光学薄膜参数测量方法研究
光学薄膜 光学薄膜参数 包络线法 全光谱拟合反演法 包络线-全光谱拟合反演法
2016/8/10
为了研准确性和效率更高的膜层光学薄膜参数测量方法,对优化膜系结构和改进制备工艺都有重要的指导作用.论文在研究传统测量方法基础上,将包络线法与全光谱拟合反演法相结合,提出了一种新型的光学薄膜参数测量方法.该方法将采用包络线法计算的单层膜光学薄膜参数近似值作为参考,设置全光谱拟合反演法优化搜索的上下限,结合适当的评价函数构建计算物理模型,并选用综合优化算法求解获得待测膜系各膜层的光学薄膜参数.最后设计...
第三届光学薄膜前沿国际会议通知（图）
第三届 光学薄膜 国际会议
2014/5/22
第三届光学薄膜前沿国际会议(FOC2014, the 3rd International conference on Frontiers of Optical Coatings)将于2014年10月20日-24日在上海举行。本次会议由国家自然科学基金委，中国光学学会光学薄膜专业委员会，上海市科学技术委员会主办，同济大学和浙江大学承办，协办单位有中国航天科工集团第三研究院8358研究所，中科院成都光...
高重复频率DPL激光对光学薄膜元件损伤实验研究
光学薄膜 重频DPL 激光 驻波场修正 损伤机理
2016/8/23
光学薄膜的高重频激光损伤特性一直是激光薄膜研究者的重点。为了分析光学薄膜在高重频激光辐照下的损伤特性，探究其损伤机理，文中从实验出发，研究了重复频率10 kHz DPL 激光对光学薄膜元件的损伤特性。结果表明，修正膜层内的驻波场分布，降低膜层内高折射材料中的驻波场峰值可以提高高重频激光损伤阈值；从激光损伤形貌与辐照激光功率的关系上看，在高重频激光辐照下光学薄膜元件的损伤实质上是热效应和场效应共同作...