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中国科学院金属研究所专利：一种动态受控电弧离子镀弧源
中国科学院金属研究所 专利 动态受控 电弧离子镀 弧源
2023/12/21
本发明涉及薄膜制备领域,具体地说是一种利用动态磁场控制弧斑运动的电 弧离子镀弧源。所述动态受控电弧离子镀弧源设有动态控制磁场发生装置、靶材、 靶材底座,靶材安装于靶材底座上,动态控制磁场发生装置为主控磁场发生装置 和辅助磁场发生装置构成,主控磁场发生装置放置于靶材后面,和靶材同轴放置, 辅助磁场发生装置套在主控磁场发生装置周围。本发明通过两组磁场发生装置配 合使用,在靶面上形成动态分布的拱形磁场,...
中国科学院金属研究所专利：一种结构紧凑的多功能磁控离子镀弧源装置
中国科学院金属研究所 专利 结构紧凑 磁控离子镀 弧源装置
2023/12/21
本发明涉及薄膜制备领域,具体地说是一种结构简单紧凑的多功能多控制模 式磁控离子镀弧源装置,磁控离子镀弧源装置的靶材底座后面设有由小型直流电 机或者交流电机驱动的旋转磁场发生装置,电机驱动固定在电机转轴上的磁轭带 动合理分布在磁轭上的永磁体转动,不同的永磁体分布便产生不同位形结构的旋 转磁场,实现多控制模式的目的。本发明利用简单紧凑的弧源结构和不同的永磁 体分布方式,产生不同位形的动态旋转磁场,用以...
中国科学院金属研究所专利：旋转磁控电弧离子镀弧源
中国科学院金属研究所 专利 旋转磁控 电弧离子镀 弧源
2023/12/21
本发明涉及薄膜制备领域,具体地说是一种利用旋转磁场控制弧斑运动的旋 转磁控电弧离子镀弧源。在靶材周围空间设有旋转磁场发生装置,旋转磁场发生 装置为采用相差一定均匀角度、相互连接在一起的几个磁极均匀布在同一圆周上, 磁极数量为4n或者3n,n≥1,形成一个整体的电磁回路骨架,励磁线圈套在磁 极上或者嵌在相邻磁极之间的槽隙内,采用相位差90°的两相或者相位差120° 的三相励磁顺序供电,在磁极包围的空...