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本发明公开一种以离子液体为基底用于热丝化学气相沉积制备硅薄膜的方法。在离子液体液面上热丝化学气相沉积制备硅薄膜,不同于传统的固体基底,液面上所合成的硅薄膜可转移,呈自支撑状态。进一步,本发明通过引入专门设计的刮刀对离子液体液面上生成的薄膜不断的刮取,可在一次实验中合成出多张厚度相近的硅纳米薄膜,有潜在的批量合成效果和实际应用价值。此外,所制备出的硅纳米薄膜采用了透析的方法去除离子液体,可实现对样品...
中国科学院金属研究所专利:用等离子体增强化学气相沉积在长管内表面沉积薄膜方法
中国科学院金属研究所专利:一种多功能金刚石薄膜的热丝化学气相沉积装置
化学气相沉积铜薄膜研究进展           2007/7/28
期刊信息 篇名 化学气相沉积铜薄膜研究进展 语种 中文 撰写或编译 撰写 作者 陶波,王琦* 第一作者单位 浙江大学化学系 刊物名称 真空科学与技术 页面 23(5), 340-346 出版日期 2003年 月 日 文章标识(ISSN) 相关项目 二阶段式化学气相沉积成长铜薄膜及其反应机理研究
采用低温常压化学气相沉积(CVD)方法在铝基底上制备了硅氧化物陶瓷膜层。使用SEM、 XPS、 AFM、 XRD、 HRTEM和UV-VIS等技术分析了膜层的形貌、 成分和组织结构特征, 测试了膜层的孔隙率、光学和显微力学性能。 结果表明: 硅氧化物SiOx陶瓷膜层在铝基表面以气相反应沉积硅氧化物颗粒—颗粒嵌镶堆垛—融合长大的方式生成, 大部分膜层为非晶态区域, 其中包含少量局部有序区域, SiO...
研究了基片预处理和工艺参数对微波等离子化学气相沉积金刚石涂层WC-8.0%Co刀具质量的影响,研究了提高成核密度和沉积速率的方法,用SEM,XRD,激光Raman光谱分析了金刚石涂层质量,用切削试验检测金刚石涂层与刀具基底的附着情况。结果表明,在1∶3的稀盐酸中酸洗15 min后用氨水浸泡10 min的基片处理方法能有效地抑制金属钴的溢出,从而提高金刚石涂层的质量,并且使刀具使用寿命提高10倍以上...

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