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最新半导体薄膜仅为三个原子厚（图）
半导体薄膜 三个原子厚
2015/5/15
美国科学家首次制造出厚度仅为三个原子的二硫化钼半导体薄膜，其不仅身材纤细，而且拥有优异的电学属性，可广泛用来制造各种超薄的电子设备。该研究的领导者、康奈尔大学化学和化学生物学助理教授吉沃格·帕克说：“新得到的二硫化钼半导体薄膜的电学性能可与二硫化钼单晶体相媲美，但我们得到的并非纤薄的晶体，而是4英寸的晶片（晶体上按一定方位角切下的薄片）。”